冯·阿登纳在上海光伏展(SNEC)展出光伏产业高效镀膜设备

• XEA | nova L - 大规模生产镀膜设备，每小时产量高达10,000片
• XENIA - 为G瓦级产线而建
• 与你亲密无间 - 冯·阿登纳扩大在中国的销售和服务

6月4日至6日，冯·阿登纳公司将在上海SNEC光伏展，N3厅520号展位上展示其最新的光伏产业解决方案，这是光伏行业的重要展会。

 这些年来，太阳能行业的制造成本压力一直很大， 冯·阿登纳则以XEA | nova L回应这一挑战。这种新的镀膜设备利用冯·阿登纳已获验证的大面积镀膜技术，在硅片上沉积均匀度最高的用于生产异质结（SHJ）电池的TCO层和IBC太阳电池的金属层。其产能高达每小时10,000片，是市场上生产效率最高的镀膜系统，年产量可达430 MWp。此外，它的靶材利用率超过80％，使得该设备非常适合大规模生产。

目前，冯·阿登纳正致力于将高速低损伤溅射的单面钝化接触技术引入大规模生产，并将钝化接触所需的溅射工艺应用于XEA | nova L平台。其在与Fraunhofer ISE和ISC Konstanz的合作中已建立概念验证，所溅射的n-aSi层得到iVoc 高达 735 mV，p-a-Si层得到iVoc 高达 709 mV。

测试结果将于6月4日下午2:15-2:30，在上海浦东嘉里大酒店，浦东宴会厅1-3举行的会议报告“PVD溅射硅层的钝化接触”中展示，报告人为Jan Lossen（ISC Konstanz，德国）。该报告与冯·阿登纳合作完成。